分類：半導(dao)體膜厚儀(yi) 發布(bu)時(shi)間：2024-09-25 4643次瀏覽
本設備利(li)用反(fan)射(she)干涉的(de)原理進行(xing)無損測(ce)(ce)(ce)量(liang)，測(ce)(ce)(ce)量(liang)吸收或者(zhe)透明襯底上薄膜的(de)厚(hou)度以及折射(she)率，同(tong)時提供樣(yang)品(pin)(pin)反(fan)射(she)率，測(ce)(ce)(ce)量(liang)精(jing)度達到埃級的(de)分辨率，測(ce)(ce)(ce)量(liang)迅速，操作簡單，界(jie)面友好，搭配(pei)顯(xian)微(wei)成像系統，配(pei)置兼(jian)容六寸的(de)手動樣(yang)品(pin)(pin)臺，可對待(dai)測(ce)(ce)(ce)樣(yang)品(pin)(pin)表(biao)面的(de)某(mou)些微(wei)小限(xian)定區域進行(xing)測(ce)(ce)(ce)量(liang)測(ce)(ce)(ce)量(liang)。
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- 蘇州工業園區唯新路83號
本(ben)設備(bei)利用反(fan)射干涉的(de)(de)原理進(jin)行無損測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)，測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)吸收或者透明襯底(di)上薄膜的(de)(de)厚度以及折(zhe)射率，同(tong)時(shi)提供(gong)樣(yang)品(pin)反(fan)射率，測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)精度達到(dao)埃級的(de)(de)分辨率，測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)迅(xun)速，操(cao)作簡單，界面友(you)好(hao)，搭配顯微(wei)成像系(xi)統，配置兼(jian)容六寸的(de)(de)手動樣(yang)品(pin)臺，可對待(dai)測(ce)(ce)(ce)樣(yang)品(pin)表面的(de)(de)某些微(wei)小限定區域進(jin)行測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)。
產品詳情
設備精度高(gao)達(da) 1 埃，測量穩定性高(gao)達(da) 0.02nm，測量時間只需一到(dao)二(er)秒。可應用(yong)于(yu)光(guang)阻、半(ban)(ban)導(dao)體材料、高(gao)分子(zi)材料等薄(bo)膜層的(de)(de)(de)厚度測量，在半(ban)(ban)導(dao)體、太陽能、液晶面板(ban)和光(guang)學行業以及科研院所和高(gao)校都得到(dao)了廣(guang)泛(fan)的(de)(de)(de)應用(yong)和極大的(de)(de)(de)好評(ping)。
測量系統規格
1、膜厚測頭指標：
1) 基本功(gong)能：獲取薄膜(mo)厚度值以及 R、N/K 等光(guang)譜
2) *光譜范圍：380-900nm
3) 光譜分辨(bian)率：小于 1nm(波長間隔）
4) 物鏡標準倍率切換(huan)規格：5×、10×、20×、50×（光纖(xian)孔徑(jing)：200um）
5) 光斑(ban)(ban)大小(xiao)：4um（50X 物(wu)鏡(jing)(jing)(jing)）、10um（20X 物(wu)鏡(jing)(jing)(jing)）、20um（10X 物(wu)鏡(jing)(jing)(jing)）、40um（5X 物(wu)鏡(jing)(jing)(jing)）可選（根據配置的物(wu)鏡(jing)(jing)(jing)切換光斑(ban)(ban)大小(xiao)）
6) *膜厚量(liang)測范圍與倍率(lv)關(guan)系：20nm-50μm（5X）
20nm~40μm（10X）
20nm~20μm（20X）
20nm~10μm（50X）
7) 測量精(jing)度(du)：0.2%和 1nm 較(jiao)大者（不(bu)同倍率一(yi)致）；
8) 配(pei)置 CCD 鏡(jing)頭，可定位識別待測區域(yu)
9) *重(zhong)復(fu)(fu)性精度：0.02nm（100nm 硅基 SiO2 樣件(jian)，100 次重(zhong)復(fu)(fu)測量）
10) *厚(hou)度(du)擬(ni)合算法(fa)：至(zhi)少擁有 Exact，Robust 和 FFT 三(san)種厚(hou)度(du)擬(ni)合算法(fa)
11) 測量 n 和 k 值厚度要求：100nm 以上(shang)
12) 單點測(ce)量時間：≤1 秒
13) 光(guang)源(yuan)：鎢鹵燈(deng)（2000 小時壽命）
14) 基板尺寸：更大(da)支(zhi)持樣件尺寸到 150*150mm
2、樣品臺規格：
1) 可測晶圓大小：4 寸&6 寸
2) 載物臺(tai)移動(dong)范圍：不小于 150mm? 150mm
3) 手動放片，測量點數(shu)跟位置在 Recipe 中可根據(ju)需要編輯
3、測控與分析軟件
1) 光譜測量能力(li)：反射率光譜測量
2) 數(shu)據分(fen)析(xi)能(neng)力：膜厚分(fen)析(xi)能(neng)力，光(guang)(guang)學常數(shu)（折射率和(he)消光(guang)(guang)系數(shu)）
3) 分析軟件：擁(yong)有不小于 100 種(zhong)不同材料的(de)數據庫(ku)，可自由導入新(xin)材料文(wen)件；
可進行不(bu)同鍍膜(mo)材料的建模，模擬(ni)鍍膜(mo)膜(mo)系的反(fan)射率曲線；軟件界面人(ren)性化
設計，測試(shi)數據(ju)能(neng)夠方便(bian)的儲存和導出；免(mian)費提供針對不同材質測試(shi)的 Recipe
程式，并可(ke)以新增新材質的 recipe；具有膜厚自校準標定功能，配備相應標
準器；至少 5 個軟件(jian)授權許可(ke) License 支(zhi)持用戶自定義，軟件(jian)不限制(zhi)拷貝(bei)數量，
支持 windows 10 操作系統
4、測控與分析(xi)計算機
1) 操(cao)作(zuo)系統：WIN10 64 位
2) CPU 處理(li)器(qi)：Intel 酷睿處理(li)器(qi)
3) 內存：≥4G
4) 硬盤：≥500G
5) 顯示器：≥19 寸
5、配件
1) 標準(zhun) SiO2/Si 標樣
2) 標準安(an)裝工具一套
6、環境與能源要求
1) 使用(yong)溫度范圍：0 oC - 40 oC
2) 相對(dui)濕度：35% ~ 60% RH
3) 空氣壓力(li)范圍：750~1014 mbar
4) 供(gong)電電源電壓(ya)：220V AC
5) 正(zheng)常頻率范(fan)圍：49-51Hz
6) 相電流：有效值(zhi)小于 1A（220V AC）
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