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重慶半導體膜厚儀
重慶半導體反射膜厚儀 HSR-Mapping

分(fen)類:半導(dao)體膜厚(hou)儀 發布(bu)時間:2024-09-25 4669次瀏覽(lan)

本設備利用反射(she)干(gan)涉的原理進(jin)行無(wu)損測量(liang)(liang),通過分析薄膜(mo)表面(mian)反射(she)光(guang)(guang)和薄膜(mo)與基底界面(mian)反射(she)光(guang)(guang)相干(gan)涉形成(cheng)的反射(she)譜,同時搭(da)配(pei) R-Theta 位移臺,兼容 6 到 12 寸樣品(pin),可以(yi)對整個(ge)樣品(pin)進(jin)行快速(su)掃描,快速(su)準確測量(liang)(liang)薄膜(mo)厚度、光(guang)(guang)學(xue)常數等信(xin)息(xi),并對于(yu)膜(mo)厚均勻性做出(chu)評價。

重慶半導體反射膜厚儀 HSR-Mapping

本設備利用(yong)反(fan)射(she)干(gan)(gan)涉(she)的原理進行無損(sun)測(ce)量,通過分析薄膜(mo)表面反(fan)射(she)光(guang)(guang)和(he)薄膜(mo)與基底(di)界面反(fan)射(she)光(guang)(guang)相(xiang)干(gan)(gan)涉(she)形成的反(fan)射(she)譜(pu),同時搭配 R-Theta 位(wei)移臺,兼容 6 到 12 寸樣品,可以對(dui)整(zheng)個樣品進行快速(su)掃描,快速(su)準確(que)測(ce)量薄膜(mo)厚度、光(guang)(guang)學(xue)常數等信息,并對(dui)于(yu)膜(mo)厚均勻性做出評價。

產品詳情

半導體反(fan)射(she)膜厚儀 HSR-Mapping 技術參數(shu)


1、HSR-Mapping 規(gui)格:

1) 基本功能:獲取薄膜厚度值以及 R、N/K 等(deng)光譜

2) 光(guang)譜分析(xi)范圍(wei):380nm-1000nm

3) 測量光斑大(da)小(xiao):<1.5mm

4) 膜厚(hou)重(zhong)復性(xing)測量(liang)(liang)精度:0.02nm(100nm 硅基 SiO2 樣件,100 次重(zhong)復測量(liang)(liang))

5) 膜(mo)厚精度:0.2%或(huo) 2nm 之間較大者

6) 膜(mo)厚穩(wen)定(ding)性(xing):優于 0.05nm

7) 膜厚測量范圍:15nm~70um

8) 測量(liang) n 和 k 值厚度(du)要求:100nm 以上

9) 樣品(pin)臺:自動(dong)化 R-Theta 移動(dong)平(ping)臺,樣品(pin)臺直徑不小于 300mm

10) *測試(shi)方(fang)(fang)式:任意多點自動化測試(shi),生(sheng)成厚度 Mapping 圖(1.圓(yuan)形/方(fang)(fang)形,2.放射形,3.中心或邊緣排除,4.定制(按樣品(pin)需要(yao)編輯坐(zuo)標(biao)點))

11) *測試速度(含有真空夾盤):5 個(ge)點 5 秒(miao)(miao),25 個(ge)點 20 秒(miao)(miao),57 個(ge)點 56 秒(miao)(miao)

12) 光源(yuan):標(biao)準(zhun)鹵素光源(yuan)(壽(shou)命 2000 小時(shi))

13) 反射(she)率模擬(ni):可進行不同鍍(du)膜(mo)材料的(de)(de)建模,模擬(ni)鍍(du)膜(mo)膜(mo)系的(de)(de)反射(she)率曲線

14) 分析軟件(jian):多達(da)數百種的光(guang)學材(cai)料常(chang)數數據(ju)庫,并支(zhi)持用(yong)戶自定(ding)義光(guang)學材(cai)料庫;提(ti)供多層各向同性光(guang)學薄膜建模(mo)仿真與分析功(gong)能


半導體反射膜厚儀 HSR-Mapping.png


2、樣品臺規格:

1) 可測晶圓(yuan)大小:4 寸(cun) & 6 寸(cun) & 8 寸(cun)&; 12 寸(cun)

2) 晶圓(yuan)固(gu)定方式:真空吸附

3) 載物臺移動范圍:不小于 300mm? 300mm

4) 支持手動(dong)放片,自(zi)動(dong) mapping 測量,測量點數跟位(wei)置(zhi)在 Recipe 中可根據需要編輯


3、測控與分析軟件

1) 光(guang)(guang)譜測量能力:反射率光(guang)(guang)譜測量

2) 數據(ju)分析能力:膜厚分析能力,光學(xue)常數(折(zhe)射率和消(xiao)光系數)

3) 軟件(jian)使用(yong)(yong) Windows 平臺,設置不同級別(bie)的(de)用(yong)(yong)戶登錄,如(Manager/Operator)等:別(bie)用(yong)(yong)戶可以修改 Recipe;Operator 只能運行已有的(de) Recipe

4) 以文字或圖形的方式顯示(shi)當前(qian)正(zheng)在(zai)運(yun)行的 Recipe 名、測量位(wei)置編號、剩余時間(jian)等參數

5) 軟(ruan)件(jian)具(ju)有歷史(shi)記錄功能,可存儲歷史(shi)記錄文(wen)件(jian)

6) 軟件可以根據需求(qiu)設備測(ce)量點數

7) 可以(yi)生成 2D 或(huo)者 3D 圖形

8) 繪(hui)圖(tu)功(gong)能:Mapping(contour),Line 等

9) 統計(ji)功能:Max, Min, Average, Median, STD 等

10) 輸出數(shu)據形(xing)式(shi)可(ke)定制(zhi),格(ge)式(shi)為(wei) CSV 或 EXCEL 格(ge)式(shi)


4、測(ce)控與分析(xi)計算機

1) 操作系(xi)統:WIN10 64 位

2) CPU 處理器(qi):Intel 酷睿 I5

3) 內存:≥4G

4) 硬(ying)盤:≥500G

5) 顯示器:≥19 寸


5、配件

1) 標(biao)準 SiO2/Si 標(biao)樣

2) 標準安裝工具一套


6、環境要求

1) 承載(zai)臺:尺(chi)寸>1.0m(長)×0.7m(寬),承載(zai)能(neng)力大(da)于 30Kg(建議光學隔振)

2) 使用(yong)溫度范圍:20 ~ 26 ℃

3) 相對(dui)濕度:35% ~ 60% RH

4) 空氣壓力范圍:750~1014 mbar

5) 潔凈(jing)度: Class 1000


7、能源要求

1) 供電(dian)電(dian)源電(dian)壓:220V AC

2) 正常頻率范圍:49-51Hz

3) 相電流:有(you)效值(zhi)小(xiao)于 0.5A(220V AC)

4) 功率(lv):小于 400 W 


8、涂裝與表面處理

1) 涂裝顏(yan)色(se):以灰白(bai)色(se)為主

2) 表面處理:鍍(du)化學鎳、陽極處理、烤漆等


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