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鄭州半導體膜厚儀
鄭州半導體反射膜厚儀 HSR-Mapping

分類:半導(dao)體膜厚儀 發布時間(jian):2024-09-25 4673次瀏覽(lan)

本設(she)備利(li)用反(fan)射(she)干(gan)涉的(de)原(yuan)理進行無損測(ce)量,通(tong)過分析薄膜表面(mian)反(fan)射(she)光和薄膜與基底界面(mian)反(fan)射(she)光相干(gan)涉形成的(de)反(fan)射(she)譜,同時(shi)搭配 R-Theta 位移臺,兼容 6 到 12 寸(cun)樣品(pin),可以(yi)對整個樣品(pin)進行快速(su)掃描(miao),快速(su)準確測(ce)量薄膜厚度(du)、光學常數等信息,并對于膜厚均勻性做出評價。

鄭州半導體反射膜厚儀 HSR-Mapping

本設備(bei)利用反射(she)干涉(she)的原理進行無損(sun)測量,通(tong)過分析(xi)薄膜(mo)表面反射(she)光(guang)和薄膜(mo)與基底界面反射(she)光(guang)相干涉(she)形成的反射(she)譜,同時搭(da)配 R-Theta 位移臺,兼容(rong) 6 到 12 寸樣品(pin),可以(yi)對(dui)(dui)整個(ge)樣品(pin)進行快速掃描,快速準確(que)測量薄膜(mo)厚度(du)、光(guang)學常(chang)數等信息,并對(dui)(dui)于膜(mo)厚均(jun)勻性做出(chu)評(ping)價(jia)。

產品詳情

半導(dao)體反(fan)射膜厚儀 HSR-Mapping 技術參數


1、HSR-Mapping 規格:

1) 基本功能:獲取薄(bo)膜厚度值以及 R、N/K 等光譜

2) 光譜(pu)分析范圍:380nm-1000nm

3) 測量(liang)光斑大小:<1.5mm

4) 膜厚重復(fu)性測量(liang)精度:0.02nm(100nm 硅基 SiO2 樣件,100 次重復(fu)測量(liang))

5) 膜厚精度:0.2%或 2nm 之間(jian)較大者

6) 膜厚穩定性:優于 0.05nm

7) 膜厚測量范圍:15nm~70um

8) 測量 n 和 k 值厚(hou)度(du)要求:100nm 以上

9) 樣(yang)品(pin)臺(tai)(tai):自動化 R-Theta 移動平臺(tai)(tai),樣(yang)品(pin)臺(tai)(tai)直(zhi)徑(jing)不小(xiao)于(yu) 300mm

10) *測試(shi)(shi)方式:任意(yi)多(duo)點自動化測試(shi)(shi),生成(cheng)厚度 Mapping 圖(1.圓形(xing)/方形(xing),2.放(fang)射形(xing),3.中心或邊緣排除,4.定制(按樣品(pin)需要編輯坐標點))

11) *測試速度(含有真空夾盤):5 個(ge)點 5 秒(miao)(miao),25 個(ge)點 20 秒(miao)(miao),57 個(ge)點 56 秒(miao)(miao)

12) 光(guang)源:標(biao)準鹵素光(guang)源(壽命 2000 小時)

13) 反(fan)射率模(mo)擬:可進行不同鍍膜材(cai)料的建模(mo),模(mo)擬鍍膜膜系的反(fan)射率曲線

14) 分析(xi)軟件:多達數百(bai)種的光學材料常數數據(ju)庫,并(bing)支持(chi)用戶自(zi)定義(yi)光學材料庫;提供(gong)多層各(ge)向同性光學薄膜建模仿真與分析(xi)功能


半導體反射膜厚儀 HSR-Mapping.png


2、樣品臺規格:

1) 可測晶圓大(da)小:4 寸 & 6 寸 & 8 寸& 12 寸

2) 晶圓固(gu)定(ding)方(fang)式:真空吸(xi)附

3) 載物臺移動范圍:不小于 300mm? 300mm

4) 支(zhi)持手動(dong)放片,自動(dong) mapping 測(ce)量,測(ce)量點數(shu)跟位置在 Recipe 中可根據需(xu)要(yao)編輯


3、測控與分析軟件

1) 光(guang)譜測量能(neng)力(li):反射率(lv)光(guang)譜測量

2) 數(shu)據分析能力:膜(mo)厚(hou)分析能力,光學常(chang)數(shu)(折射率和消光系數(shu))

3) 軟件使用(yong) Windows 平臺,設置不同級別的用(yong)戶登錄,如(Manager/Operator)等:別用(yong)戶可以修改 Recipe;Operator 只能運行已(yi)有的 Recipe

4) 以文字或圖形的方式顯示當(dang)前正(zheng)在運行(xing)的 Recipe 名、測量位(wei)置編號、剩余時間等參數

5) 軟件(jian)具有歷史記(ji)錄功能,可(ke)存(cun)儲歷史記(ji)錄文(wen)件(jian)

6) 軟件可(ke)以根據需(xu)求(qiu)設(she)備(bei)測(ce)量點數

7) 可以生成 2D 或(huo)者(zhe) 3D 圖形

8) 繪圖功能:Mapping(contour),Line 等(deng)

9) 統計(ji)功能:Max, Min, Average, Median, STD 等

10) 輸出數據形式可定制,格(ge)(ge)式為 CSV 或 EXCEL 格(ge)(ge)式


4、測(ce)控與分析(xi)計算(suan)機

1) 操作系統:WIN10 64 位

2) CPU 處理(li)器:Intel 酷睿 I5

3) 內存:≥4G

4) 硬盤(pan):≥500G

5) 顯示(shi)器:≥19 寸


5、配件

1) 標(biao)準 SiO2/Si 標(biao)樣

2) 標準安裝(zhuang)工(gong)具一套


6、環境要求

1) 承(cheng)載臺:尺(chi)寸>1.0m(長)×0.7m(寬),承(cheng)載能力大于(yu) 30Kg(建議光(guang)學隔振(zhen))

2) 使用溫度范圍:20 ~ 26 ℃

3) 相對濕度:35% ~ 60% RH

4) 空氣壓力范圍:750~1014 mbar

5) 潔凈度(du): Class 1000


7、能源要求

1) 供電(dian)電(dian)源電(dian)壓:220V AC

2) 正常頻率范(fan)圍(wei):49-51Hz

3) 相電流(liu):有效值小(xiao)于(yu) 0.5A(220V AC)

4) 功率:小于 400 W 


8、涂裝與表面處理

1) 涂裝(zhuang)顏色:以灰白色為主

2) 表(biao)面處(chu)理:鍍化(hua)學鎳、陽極處(chu)理、烤漆等


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